Hòstia simulada Hòstia de silici

Hòstia simulada Hòstia de silici

L'embalatge de les hòsties de silici està dissenyat acuradament per garantir que siguin d'alta qualitat i es puguin transportar de manera segura i fiable a les destinacions previstes.

Descripció

 

Descripció

Les hòsties monocristal·lines solen tenir un diàmetre de 125 mm o 156 mm i tenen un gruix d'uns 200 micres. Sovint es tallen amb una orientació específica, com els plànols (100) o (111), segons l'ús previst.

Algunes de les característiques clau de les hòsties monocristal·lines inclouen la seva alta puresa, estructura de cristall uniforme i baixa densitat de defectes. Aquestes característiques els fan ideals per utilitzar-los en dispositius electrònics que requereixen alta precisió i fiabilitat, com ara microprocessadors, xips de memòria i cèl·lules solars.

Especificació

nom del producte

Hòstia de silici de tipus N/P intrínsec

Mida

2/3/4/5/6/8/12 polzades

Orientació

100 110 111

Gruix (mm)

525 més /-25 μm o personalitzat

Superfície

polit

Partícules

<30 at 0.3um

resistivitat

0.001-10000 Ω.cm

Angle

30 graus 60 graus 90 graus

Aplicació

Semiconductor

Creixement

FZ

Tipus

tipus N i tipus P

Grau

Primer

 

 

1-2010200R93SW

1-2010200S213B4

Podem personalitzar tot tipus de substrat de transmitància alta.
1 High purity :SiO2>99,99 per cent.
2 Temperatura de funcionament: 1250 graus; Temperatura suavitzada: 1730 graus.
3 Excel·lent rendiment visual i químic: resistència a l'àcid, resistència als àlcalis, bona estabilitat tèrmica
4 Cura de la salut i protecció del medi ambient.
5 Sense bombolla d'aire ni línia d'aire.
6 Excel·lent aïllant elèctric.

 

 

 
 

 

 

 

 

Etiquetes populars: hòstia simulada hòstia de silici

Potser també t'agrada

Bosses de compres