Pols de silici metàl·lic de 200 malles

La pols de silici metàl·lic és una matèria primera clau en moltes aplicacions industrials, inclosa la producció de semiconductors, cèl·lules solars i aliatges d'alumini. El terme "200 malla" es refereix a la mida de les partícules de pols, que són prou fines per passar per una pantalla de malla amb 200 obertures per polzada.

Algunes de les propietats que fan que la pols metàl·lica de silici de 200 malles sigui útil en aplicacions industrials inclouen la seva alta conductivitat tèrmica, baix coeficient d'expansió tèrmica i capacitat de resistir l'oxidació a altes temperatures. Aquestes propietats el converteixen en un material ideal per al seu ús en electrònica, aeroespacial i altres indústries d'alta tecnologia.

Composició química: Si > 99 per cent, Fe < 0.05 per cent, Al < 0.{05 per cent, Ca <0},03 per cent , Mg <0,02 per cent, altres impureses <0,05 per cent

Distribució de la mida de les partícules: 200 malla (75 micres)

Densitat aparent: 2.2-2,6 g/cm3

Superfície específica: 2-5 m2/g

Embalatge: personalitzable segons els requisits del client i les necessitats de l'aplicació

Avantatges:

Ideal per al seu ús en una àmplia gamma d'aplicacions industrials, inclosa la metal·lúrgia de pols, recobriments i fabricació química.

L'alta puresa i el baix contingut d'impureses garanteixen un rendiment constant i fiable en aplicacions exigents

La mida de partícula fina i la distribució consistent de la mida de les partícules fan que aquesta pols sigui fàcil de manejar i dispersar, garantint una eficiència i precisió òptimes en el processament.

Produït mitjançant processos de fabricació avançats per garantir una alta qualitat i un rendiment constant

Usos:

Polvimetal·lúrgia i processos de sinterització

Recobriments i tractaments superficials

Fabricació de productes químics i producció de catalitzadors

Materials i components electrònics

Processos de fabricació additiva